• InP 磷化銦

InP Single Crystal Wafers(p-Type)
Growth Method・Dopant
生長方法・參雜物
VGF/VB. Zn VGF/VB. Zn
CarrirerConcentration(cm-³)
載流子濃度
(4-6) E18 (2-5) E18
Resistivity
電阻率
(2-5) E-2 (2-7) E-2
Mobility (cm²/V・sec)
遷移率
35-60 50-80
EPD Average (cm-²)
EPD平均數
<5000 <2000 <500 <500 <5000
Diameter (mm)
直徑
50.8±0.3 76.0±0.3
OF(mm)
主參考邊
17.0±1.0 22.0±1.0
IF(mm)
次參考邊
7.0±1.0 12.0±1.0
Edge Rounding (mm R)
倒角
0.25 (Conform to SEMI Standards)
Thickness (um)
厚度
350±15 600±15
Orientation
晶向
(100)±0.3°
Surface Finish
表面光潔度
P/E P/E P/E P/E P/E P/E
P/P P/P P/P P/P P/P P/P
Surface Clean
表面潔淨度
Epi-Ready
Flatness・LPD
平整度・亮點缺陷
Refer to Page 11
Package
包裝
Single

工業簡介

III-V化合物晶體、晶片

多晶合成

  • 紅磷位於低溫區,銦位於高溫區。
  • 低溫區溫度不能超過575° ,575° 是紅磷氣化的平衡點,如果溫度超 過575°,紅磷會快速昇華,石英管內氣壓急劇上升,會導致爆管。
  • 生長和冷卻大約需要6天。
  • 每爐合成10千克,合成率96%。
  • 6台磷化銦多晶生產爐,月產能0.2噸。
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